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    装备最先进沉浸式光刻机:正迈向14nm

      [  中关村在线 原创  ]   作者:孙玉亮   |  责编:赵剑楠

      中芯国际斥资1.2亿美元购买了一台EUV极紫外光刻机,目的是未来可以生产7nm工艺芯片。与此同时,长江存储同样从荷兰ASML(阿斯麦)购买了一台机器,唯一不同是的是193nm沉浸式,能用于生产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆,售价7200万美元一台。


      这台光刻机的型号是NXT 1980Di,也是大陆装备的最先进的沉浸式光刻设备。据华力微电子官网资料显示,华虹六厂是该司的第二个12英寸晶圆生产线,设计月产能4万片,工艺技术从28nm起步,最终将具备14nm三围工艺的高性能芯片生产能力

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    ssd.zol.com.cn true http://ssd.zol.com.cn/689/6893312.html report 457   中芯国际斥资1.2亿美元购买了一台EUV极紫外光刻机,目的是未来可以生产7nm工艺芯片。与此同时,长江存储同样从荷兰ASML(阿斯麦)购买了一台机器,唯一不同是的是193nm沉浸式,能用于生产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆,售价7200万美元一台。  这台光刻机的型...
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